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蒸着技術詳細

蒸着のしくみ

真空蒸着とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。

スパッタのしくみ

スパッタとは、1.0E-2Pa以下の真空中に不活性ガス(主にArガス)を導入しながら基板とスパッタ材間に直流高電圧を印加し、イオン化したArをスパッタ材に衝突させて、はじき飛ばされたスパッタ物質を基板に成膜させる技術です。

主な蒸着膜およびスパッタ膜

利用されることの多い蒸着膜、スパッタ膜です。
この他にも多くの物質に対応させていただいております。お気軽にお問い合わせ下さい。
Ag
MgF2
フッ化マグネシウム
Ti
チタン
Al
アルミニウム
MgO
酸化マグネシウム
TiC
炭化チタン
Al2O3
アルミナ
Mo
モリブデン
TiN
窒化チタン
AlF3
フッ化アルミニウム
Na3AlF6
クリオライト
TiO2
二酸化チタン
Au
Na5Al3F14
チオライト
W
タングステン
BaF2
フッ化バリウム
Nb
ニオブ
WO3
酸化タングステン
CaF2
フッ化カルシウム
Nb2O5
酸化ニオブ
Y
イットリウム
CeF3
フッ化セリウム
Ni
ニッケル
Y2O3
酸化イットリウム
CeO2
酸化セリウム
Pd
パラジウム
YF3
フッ化イットリウム
Co
コバルト
Pt
白金
YbF3
フッ化イットリビウム
Cr
クロム
Ru
ルテニウム
Zn
亜鉛
Cr2O3
酸化クロム
Si
シリコン
ZnO
酸化亜鉛
Cu
Si3N4
窒化ケイ素
ZnS
硫化亜鉛
Fe
SiC
炭化ケイ素
Zr
ジルコニウム
Ge
ゲルマニウム
SiO2
二酸化ケイ素
ZrC
炭化ジルコニウム
HfO2
酸化ハフニウム
SmF3
フッ化サマリウム
ZrN
窒化ジルコニウム
In
インジウム
Sn
スズ
ZrO2
酸化ジルコニウム
In2O3
酸化インジウム
SnO2
酸化スズ
DLC
ダイヤモンドライクカーボン
ITO
酸化インジウムスズ
Ta
タンタル
撥水コート
LaF3
フッ化ランタン
Ta2O5
五酸化タンタル
撥油コート

光学膜のしくみ

光学膜とは単層または多層(1層~数百層)の構成より成り立ち、各層の境界面で生じる光の反射の干渉を利用し、 必要な反射特性及び透過特性をもつ製品です。

光と真空と薄膜をテーマに

光学分野
200nm~25μmの電磁波におけるミラー/フィルターの製造にあたり、光の種類(紫外線、可視光線、赤外線など)や、使用環境を十分に考慮しながら、これまで蓄積されたデータを元に、お客様に最適な薄膜を提案しております。
また精密な薄膜設計と、当社で開発した成膜システムにより、レーザー波長などご希望の波長の光を選択的に取り出したり、カットすることが可能です。
真空分野
真空分野では、コーティングを含め、真空を利用した様々な装置への応用も手掛けております。
・コーティング装置
真空蒸着装置 スパッタリング装置 CVD装置など
・その他
ドライエッチング 真空焼結装置など
薄膜分野
導電性、高硬度性、絶縁性、撥水性、撥油性、防曇性、メタライズなどの特性をもたせた、機能性薄膜の製造も行なっております。
機能性薄膜
・撥水性
・撥油性
・防曇性
・メタライズ
・高硬度性
DLC TiN TiCなど
・バリア膜
Si3N4 SiC ZrC ZrNなど

電磁波の名称と波長

検査器、生産風景

当社の製品は分光光度計を使用し、光学特性を測定します。
綿密な測定を行い、品質を保証してます。
分光光度計
生産風景(蒸着)
当社の製品はレーザー干渉計を使用し、基板表面の平面度を測定します。
干渉計
生産風景(検査)
当社の製品はデジタル顕微鏡を使用し、基板表面の外観(キズ・汚れ等)・角度・寸法を測定します。
マイクロスコープ
生産風景(蒸着)
◇当社の製品はレーザー顕微鏡を使用し、表面形状を測定します。
非破壊・非接触で深さ 0.01μmまで測定可能という高精度な測定
を行います。(観察倍率 250~2.500倍)
レーザー顕微鏡
SEM
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